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三星与ASML合作开发下一代EUV光刻掩模版

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9 月 9 日,据首尔经济日报,三星电子将与全球最大的光刻设备制造商 ASML 共同开发高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻技术。三星正参与一项旨在推动行业标准转变的工作,即将自 20 世纪 80 年代以来一直使用的 6 英寸光...