据动察 Beating 监测,中国台湾智慧财产及商业法院就台积电 2nm 制程商业秘密案作出一审判决,曾任台积电和东京电子台湾子公司的陈力铭被判 10 年,东京电子台湾子公司被罚新台币 1.5 亿元。
判决认定,陈力铭离开台积电后进入东京电子的台湾子公司,任职行销部门,并向仍在台积电任职的工程师索取先进制程资料,用于协助东京电子争取更多台积电设备订单。涉案资料包括 2nm 生产所用蚀刻设备相关商业秘密,部分资料以拍照、重制方式取得。
其他被告中,另外三名涉案台积电员工吴秉骏、戈一平、陈韦杰分别被判 3 年、2 年、6 年;东京电子台湾子公司员工卢怡尹被判 10 个月、缓刑 3 年。东京电子台湾子公司的 1.5 亿元罚金可缓刑执行,条件是向台积电赔偿新台币 1 亿元,并向公库支付 5000 万元。
东京电子去年被追加起诉后曾称,检方并未指控东京电子集团或台湾子公司组织性指使员工不当取得资料,公司内部调查也没有发现相关机密外流给第三方。台积电此前称,对商业秘密外泄采取零容忍态度,并已强化内部控管。
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