6 月 26 日,半导体与 AI 独立研究机构 SemiAnalysis 发文指出,中国在刻蚀设备领域的国产化进程正在加速,且步伐明显快于沉积设备。数据显示中国前端设备进口中,刻蚀设备今年迄今同比下降 18%,而沉积设备进口同比上升 3%。SemiAnalysis 认为,这意味着中国国产替代在刻蚀环节已取得实质性突破。
全球刻蚀龙头的财报同步印证了这一判断:应用材料中国营收在 2025 财年同比下降 16%,东京电子中国营收在 2026 财年同比下降 18%。SemiAnalysis 指出,北方华创是这一趋势的关键驱动者,渠道调研显示其在长鑫存储的 ICP 刻蚀市场份额已居首位,随着长鑫持续扩产,北方华创有望进一步巩固份额并扩大收入规模。
币须知道